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「エムメムス基板」は半導体フォトリソグラフィ技術と精密めっき技術を融合させて角ダレのない立体構造を可能にした放熱基板です。
「エムメムス基板」によって、電極に高さ・体積が得られ、電極自体に高い放熱性を持たせることができると同時に、大電流を流すことが可能になります。
「エムメムス基板」は、UV LEDなどの高輝度で大電流を流し、放熱性が求められる用途に適しためっき基板です。

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従来エッチング工法でしか不可能だったアルミナ基板や、より放熱性に優れた窒化アルミ基板などにも、めっき工法で形成できます。

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めっきならではの厚膜構造(数十~数百㎛)が可能です。
これにより、基板だけでなくめっき皮膜にも放熱性を持たせることができると同時に、大電流にも対応できます。

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半導体フォトプロセスによりパターン幅数十㎛~の垂直微細めっきが可能です。
エッチング工法では不可能な垂直構造を実現しました。

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基板枚数が数十枚でも対応いたします。
なんなりとお問い合わせください。

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エムメムス基板によりLED放熱特性を大幅に改善できます。